技术详情
（技术特点、主要技术参数、应用范围、市场前景、效益分析等）
硅单晶碱性抛光液及清洗液项目，始自七十年代中期，不断对产品研发与升级。FA/O硅单晶碱性抛光液，具有较高的抛光速率，能有效去除衬底表面损伤层，表面微粗糙度较低，可解决衬底片结底不平引起的嗓声增加、漏电流增大，实现了表面高完美性，提高了衬底片器件区的可靠性与衬底片良品率。FA/O硅单晶清洗液，采取特有的物理优先吸附，有效去除抛光片表面颗粒物、有机物沾污，清洗后衬底片表面重金属离子降至ppm级，并且清洗容易、洁净度高。
适用对象
原材料、设备、厂房、动力、土地、人力资源、环保、周围环境
