技术详情
项目内容
占地120亩,总建筑面积35000平方米,新增设备220多台套,生产流水线两条,年生产规模100吨。
总投资预算
项目计划总投资3.2亿元,其中固定资产投资2.5亿元,流动资金7000万元,企业自筹1.2亿元,申请银行贷款和引进其它资金2亿元。
市场分析
ITO(氧化铟锡)靶材是溅射靶材中陶瓷靶材(化合物靶材)的一种,在显示靶材中占比将近50%。我国ITO靶材行业近几年发展也较迅速,其中以民营合资企业居多。随着我国已成为全球较大的面板生产基地,已经有国外的靶材技术企业开始逐步将靶材技术转移至国内,借助国内的相关政策和地域优势,更有利于服务巨大的面板产业客户。但从下游面板产业来看,新增面板产线的增速放缓,国内80%左右的面板产线主要集中在如京东方、华星光电、惠科股份有限公司、中电熊猫等几家大型的面板制造商。纵观面板产业发展的“液晶周期”,所以在未来的3~5年,ITO靶材将会形成一个高速竞争发展期,在国家相关政策和面板厂商的积极推动下,谁能突破关键技术产业化瓶颈,率先实现TFT-LCD产业规模化量产,在面板产业供应商获得一席之地。
经济效益
本项目完成后,年产100吨规模,其经济效益将非常可观,年可实现销售收入6亿元,利润1.5亿元,税金6000万元。
企业现状
公司目前项目已建设完工,主导产品ITO靶材拥有国内第一条从粉体制备、成型、烧结、加工、绑定、回收于一体的ITO靶材连续沉积生产线,突破了国内行业溅射靶材密度低、尺寸小的关键技术,打破全球高纯溅射靶材市场被日、韩等生产厂商的垄断,填补国内新材料领域中非金属矿物功能材料溅射ITO靶材的空白。